概要
监测无尘室中光刻区域的大气环境是防止外来颗粒物和HAZE的第一步
随着半导体制程中日益增长的监测需要，对生产流程的控制更严格的控制正变得非常的必要，特别是对现有的光刻制程，需要有非常严格的气体环境监测。在光刻工业中，对氨气的追踪控制非常重要，因为它是HAZE的主要成因。HAZE会在掩模版表面生成外来颗粒物，并遮挡曝光单元的内部光镜。为了追踪这个由超低氨气浓度引发的问题,进行实时的监测非常必要, Horiba用CG-1000，氨气追踪监测仪满足了这一重要需求。CG-1000设备以CRDS检测技术为特点，专为在线使用所研发.。
CRDS(Cavity Ring Down Spectroscopy)CRDS 方法使用成数量的高效反光镜在一个光学腔内捕捉激光，然后监测从光学腔中逃出的光的衰退时间。这使任何在光学腔中可被吸收的样品都可被测量。CRDS使用一条长度几公里的光路，这可以使测量的精度达到相当高的程度。而且，正因为本方法测量的是光的衰退时间, 它的优点就是可以不受激光光强波动的影响。基于此原因，CRDS提供了简单的操作性以及强大的功能性。
